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您現(xiàn)在所在位置：網(wǎng)站首頁 >> 產(chǎn)品展示 >> 金屬電鍍工藝設(shè)備

IC激光修調(diào)工藝設(shè)備

激光封焊設(shè)備

晶圓激光退火設(shè)備

晶圓激光劃片剝離設(shè)備

金屬電鍍工藝設(shè)備

PARYLENE鍍膜設(shè)備

高精度貼片機

旋涂機

平行縫焊機

離子污染測試儀

噴涂點膠機

固化設(shè)備

金屬剝離濕法工藝設(shè)備

開帽機

小型

小型晶圓電鍍系統(tǒng)
制造商：日本
主要功能：面向?qū)嶒為_發(fā)的小型晶圓電鍍系統(tǒng)

  •        電鍍過程是金屬化的過程，通過全密閉單片式電鍍腔體，將電鍍液中的金屬離子電鍍到晶圓表面，以形成金屬互聯(lián)。導(dǎo)電電極會連接至晶圓，采用電鍍工藝沉積金屬至晶圓上圖案化的溝槽內(nèi)而形成金屬層(又稱為金屬薄膜)中的金屬線，例如形成銅線，或者金線。
           此電鍍設(shè)備可運用于多種晶圓材料如Si、InP、GaAs、GaN、LiNbO3、SiC等，也可做電鍍Au、Cu、Ni、Sn、Ag等多種金屬的單層電鍍工藝。
           同樣適用于多種電鍍工藝，如凸塊,RDL,通孔，盲孔，深孔等工藝需求，擁有出色的均勻性。
           根據(jù)工藝需求，可提供配套的電鍍藥水。
           實驗型采用單CUP的電鍍槽體，屬于小型電鍍實驗設(shè)備，電鍍液的體積不足10升，有效地降低了實驗的成本。

  • 1，環(huán)狀電極和鍍液噴涌攪拌裝置，可以更好的保證電鍍均勻性，也可電鍍深孔深槽，Au、Cu、Ni、Sn、Ag等多種金屬。
    2，可滿足不同尺寸晶圓的電鍍需求，可支持2~8英寸，更換夾具方便快捷。
    3，可選配不同的鍍液，支持單層金屬沉積工藝。
    4，槽體及管路采用pump材質(zhì)，可耐強酸堿。
    5，采用單CUP結(jié)構(gòu)，手動上下料，可實驗多品種的快速切換。
    6，適用于研發(fā)型小批量多品種的工藝測試和生產(chǎn)。

010-56380018
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